パナソニックは5月12日、高感度高画質を実現する新MOSイメージセンサ技術を開発したと発表した。2011年12月よりデジカメ向けに量産を開始し、デジタルビデオカメラやスマートフォン向けなどへ展開していく。
32および45ナノプロセスルールの採用によって集光効率を高め「業界最高」(同社)の高感度を実現したほか、集光構造も改めることで入射光角度を拡大し、より薄型なカメラの実現も可能としている。
12月よりデジタルカメラ向けに量産開始されるセンサーのサイズは1/2.33型(アスペクト比4:3)で、有効画素数は1424万画素。
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